Advantages of MPCVD
MPCVD는 HFCVD 및 DC-PJ CVD와 같은 다른 방법에 비해 몇 가지 장점이 있는 다이아몬드 합성 방법입니다. 핫 와이어에 의한 다이아몬드 오염을 방지하고 다양한 산업
요구 사항을 충족하기 위해 여러 가스를 사용할 수 있습니다. DC-PJ CVD에 비해 마이크로파 출력을 부드럽고 지속적으로 조정할 수 있고 반응 온도를 안정적으로 제어할 수
있어 아크 및 화염 실패로 인해 결정 씨앗이 기판에서 떨어지는 것을 방지할 수 있습니다. 넓은 면적의 안정적인 방전 플라즈마를 사용하는 MPCVD 방식은 산업 응용 분야에서 가장 유망한 다이아몬드 합성 방법으로 꼽힙니다.
MPCVD를 통해 생산된 다이아몬드는 HPHT 방식으로 생산된 다이아몬드에 비해 순도가 높고 생산 공정에서 소비되는 에너지가 적습니다. 또한 MPCVD 방식은 더 큰
다이아몬드를 생산할 수 있습니다.
Advantages of Our MPCVD System
당사는 수년간 업계에 깊이 관여해 왔으며, 그 결과 당사의 장비를 신뢰하고 사용하는 방대한 고객층을 확보하고 있습니다. 당사의 MPCVD 장비는 40,000시간 이상
안정적으로 작동하며 탁월한 안정성, 신뢰성, 반복성 및 비용 효율성을 입증했습니다. 그 밖의 장점은 다음과 같습니다:
- 3인치 기판 성장 면적, 최대 45개 다이아몬드까지 일괄 처리 가능
- 전력 소비를 줄이기 위한 1~10Kw 출력 마이크로파 전력 조절 가능
- 풍부한 경험을 갖춘 연구팀과 프론티어 다이아몬드 성장 레시피 지원
- 제로 다이아몬드 성장 경험팀을 위한 독점 기술 지원
프로그램 축적된 첨단 기술을 활용하여 MPCVD 시스템을 여러 차례 업그레이드하고 개선하여 효율성을 크게 개선하고 장비 비용을 절감했습니다. 그 결과, 당사의 MPCVD
장비는 기술 발전의 최전선에 서 있으며 경쟁력 있는 가격으로 제공됩니다. 당사와의 상담을 환영합니다.

Working Processing
MPCVD 장비는 각 가스 경로의 흐름과 캐비티 압력을 제어하면서 특정 압력 하에서 반응 가스(CH4, H2, Ar, O2, N2 등)를 캐비티에 도입합니다. 공기 흐름을 안정화시킨 후 6KW 고체 마이크로파 발생기는 마이크로파를 생성한 다음 도파관을 통해 캐비티로 유입합니다.
반응 가스는 마이크로파 장 아래에서 플라즈마 상태로 변환되어 다이아몬드 기판 위에 떠 있는 플라즈마 볼을 형성합니다. 플라즈마의 높은 온도는 기판을 특정 온도로
가열합니다. 캐비티에서 생성된 과도한 열은 수냉 장치에 의해 방출됩니다.
MPCVD 단결정 다이아몬드 성장 공정에서 최적의 성장 조건을 보장하기 위해 전력, 가스 소스 구성, 캐비티 압력 등의 요소를 조정합니다. 또한 플라즈마 볼이 캐비티 벽에
접촉하지 않기 때문에 다이아몬드 성장 과정에서 불순물이 발생하지 않아 다이아몬드의 품질이 향상됩니다.
Technical specifications
Microwave system | - Microwave frequency 2450±15MHZ,
- Output power 1~10 KW continuously adjustable
- Microwave output power stability: <±1%
- Microwave leakage ≤2MW/cm2
- Output wave guide interface: WR340, 430 with FD-340, 430 standard flange
- Cooling water flow: 6-12L/min
- System standing wave coefficient: VSWR ≤ 1.5
- Microwave manual 3 pin adjuster, excitation cavity, high-power load
- Input power supply: 380VAC/50Hz ± 10%, three-phase
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Reaction chamber | - Vacuum leakage rate<5 × 10-9 Pa .m3/s
- The limit pressure is less than 0.7 Pa(Standard setup with Pirani vacuum gauge)
- The pressure rise of chamber shall not exceed 50Pa after 12 hours of pressure maintaining
- Working mode of reaction chamber: TM021 or TM023 mode
- Cavity type: Cylindrical resonant cavity, with maximum bearing power of 10KW, made of 304 stainless steel, with water-cooled inter-layer, and high purity quartz plate sealing method.
- Air intake mode: Top annular uniform air intake
- Vacuum sealing: The bottom connection of the main chamber and the injection door are sealed with rubber rings, the vacuum pump and bellows are sealed with KF, the quartz plate is sealed with a metal C-ring, and the rest are sealed with CF
- Observation and temperature measurement window: 8 observation port
- Sample load port in front of chamber
- Stable discharge within the pressure range of 0.7KPa~30KPa (the power pressure shall be matched)
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Sample holder | - Diameter of sample table≥72mm, effective use area≥66 mm
- Base plate platform water-cooled sandwich structure
- Sample holder can be lifted and lowered evenly electrically in the cavity
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Gas flow system | - All metal welding air disk
- Welding or VCR joints shall be used for all internal gas circuits of the equipment.
- 5 channels MFC flow meter, H2/CH4/O2/N/Ar. H2: 1000 sccm ;CH4:100 sccm; O2: 2 sccm; N2: 2 sccm; Ar: 10 sccm
- Working press 0.05-0.3MPa, accuracy ±2%
- Independent Pneumatic valve control for each channel flow meter
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Cooling system | - 3 lines water cooling, real-time monitoring of temperature and flow.
- The system cooling water flow is ≤ 50L/min
- The cooling water pressure is<4KG, and the inlet water temperature is 20-25 ℃.
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Temperature sensor | - The external infrared thermometer has a temperature range of 300-1400 ℃
- Temperature control accuracy < 2 ℃ or 2%
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Control system | - Siemens smart 200 PLC and touch screen control are adopted.
- The system has a variety of programs, which can realize the automatic balance of growth temperature, accurate control of growth air pressure, automatic temperature rise, automatic temperature drop and other functions.
- The stable operation of the equipment and comprehensive protection of the equipment can be achieved through the monitoring of water flow, temperature, pressure and other parameters, and the reliability and safety of the operation can be guaranteed through functional interlocking.
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Optional function | - Center monitoring system
- Substrate basing power
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