Plasol l PS-200 플라즈마 클리너

[Plasol] PS-200 플라즈마 클리너

PS-200 클리너는 300W 제너레이터와 다양한 크기와 형상을 가진 샘플들을 수용할 수 있는 중대형 사각 챔버를 갖춘 중형 플라즈마 표면처리 장비 입니다. PS-200 에는 총 4개의 가스유량 제어기를 설치할 수 있으며, O2, Ar, N2, CF4, SF6 등의 다양한 공정가스를 사용해 플라즈마를 방전시켜, 여러가지 목적에 맞는 표면개질 작업들을 수행 할 수 있습니다. 본 장비는 듀얼 전극을 통한 CCP 방전 방식을 채택하여 표면 처리의 균일도가 높으며, 임베디드 시스템을 통해 정밀한 변수설정이 가능하고, 전자동 운용모드를 지원하여 플라즈마 공정의 정확도와 편리성을 높인 강력한 표면처리 장비입니다.

제품명 PS-200

제조사 Plasol

제조국 Korea

Automatic & Manual Plasma Operation Modes

PS-200 클리너는 사용자가 사전에 설정한 공정 조건들 (출력, 가스 유량, 방전 개시 압력, 시간 등)에 따라서 플라즈마를 방전시키는 전자동 운용 모드를 지원하여, 플라즈마 표면처리공정의 편리성과 재현성을 높인 장비입니다.

본 장비 안에서는 세밀 조정 가능한 플라즈마 제너레이터, 가스 유량을 제어하는 Mass Flow Controller, 진공도의 변화를 빠르게 측정하는 Pirani 센서 등의 고정밀 구성요소들이 임베디드 시스템을 통해 중앙 제어되며, 사용자는 대화면 터치스크린을 통해 쉽게 공정 조건들을 디지털 입력하고, 전반적인 공정 상태를 실시간으로 파악할 수 있습니다. 처리 완료 이후, 시간에 따른 데이터 변화기록을 별도로 저장하여 후속 분석에 필요한 정량적 정보로 활용할 수도 있습니다.

Capacitively Coupled Plasma (CCP) System

PS-200의 리액터 챔버는 200×230×160mm의 내부 치수를 가진 사각 구조의 챔버로서, 다양한 크기의 작업물들을 수용할 수 있는 유연성을 자랑하며, Multi-Tray를 활용하여 여러 개의 소형 샘플들을 동시에 처리할 수도 있습니다.

당사의 챔버는 듀얼 전극을 사용하여 가스를 방전시키는 축전결합 플라즈마 (CCP) 방식을 사용합니다. 넓은 면적에 걸쳐 균일도 높은 플라즈마를 생성할 수 있어, 복잡한 형상을 가진 샘플의 처리에 알맞으며, 일관된 표면 개질을 일으킬 수 있습니다. 또한, PS-200의 챔버에는 N2 Purge 라인이 연결되어 있어, 플라즈마 작업 완료 후, 샘플 표면에 추가적인 기체 흡착을 방지하고, 위험한 잔류가스를 제거합니다.