◼ 제품 설명

• 2 µm 초고해상도 마이크로 3D 프린팅: microArch S130는 2 µm 광학 해상도와 5–20 µm 레이어 두께를 지원하여, 기존 가공 방식으로 구현이 어려웠던 초소형·초정밀 구조를 안정적으로 구현합니다
• 마이크로 구조 전용 PµSL 공정: BMF의 독자 PµSL 공정과 스텝-앤-리핏(step-and-repeat) 방식으로, 작은 빌드 사이즈에서도 높은 정밀도와 생산성을 동시에 확보합니다
• 다양한 마이크로 응용 분야: 마이크로플루이딕스, 마이크로니들, 전기전자 부품, 바이오·의료 디바이스, 반도체 패키징 등 수십 마이크로미터 선폭과 채널을 요구하는 응용에 적합합니다

• 산업용 안정성 및 개방형 소재 플랫폼: UV-LED(405 nm) 광원을 사용하는 산업용 시스템으로, 감광성 레진 기반의 다양한 기능성 소재와 호환되며, 연구·개발부터 소량 생산까지 폭넓게 대응합니다.

◼ 기술사양

• 출력 기술: PµSL (Projection Micro Stereolithography)

• 광원: UV-LED 405 nm

• 광학 해상도 (XY): 2 µm

• 레이어 두께 (Z): 5–20 µm

• 표면 조도: 상면 0.4–0.8 µm Ra, 측면 1.5–2.5 µm Ra 수준으로 매끄러운 표면 구현

• 출력 재료: 감광성 레진(Photosensitive Resin, 일부 세라믹 레진 지원)

• 빌드 사이즈: 50 × 50 × 10 mm

• 전원: 100–240 V AC, 50/60 Hz, 최대 2,000–3,000 W 등급

• 외형 크기: 1,720 × 750 × 1,820 mm

• 장비 무게: 약 450–550 kg (에어 플로팅 구조 기반의 진동 흡수 설계)
• 인증: CE 등 산업용 장비 인증 지원

◼ Applications