[Kintek Solution] Inclined Rotary Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition PECVD Equipment Tube Furnace Machine


샘플 홀더 가열 온도

≤800℃

Gas Purge Channels

4 channels

진공실 챔버 크기
Φ500mm × 550 mm


제품명   KT-PED

제조사    Kintek Solution

제조국    China


◼Introduction


플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)은 증기 또는 가스를 전구체로 사용하여 코팅을 생성하는 진공 박막 증착 공정입니다. PECVD는 열 대신 플라즈마를 사용하여 소스 가스 또는 증기를 활성화하는 화학 기상 증착(CVD)의 변형입니다. 고온을 피할 수 있기 때문에 가능한 기판의 범위가 낮은 융해점 재료로 확장됩니다. 경우에 따라 플라스틱까지도 가능합니다. 또한, 증착할 수 있는 코팅 재료의 범위도 넓어지고 있습니다. PECVD는 유전체, 반도체, 금속, 절연체 등 다양한 재료를 증착하는 데 사용됩니다. PECVD 코팅은 태양 전지, 평면 패널 디스플레이, 마이크로 일렉트로닉스 등 다양한 분야에

사용됩니다.



◼Applications


플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD) 코팅 기계는 다양한 산업과 응용 분야에 적합한 다목적 솔루션을 제공합니다.


  • LED 조명:** 발광 다이오드(LED)용 고품질 유전체 및 반도체 필름 증착
  • 전력 반도체:** 전력 반도체 장치의 절연층, 게이트 산화물 및 기타 중요 구성 요소 형성
  • MEMS:** 센서 및 액추에이터와 같은 마이크로 전자 기계 시스템(MEMS)용 박막 제조
  • 광학 코팅:** 반사 방지 코팅, 광학 필터, 기타 광학 부품의 증착
  • 박막 태양 전지:** 태양 전지 장치용 비정질 및 미세 결정질 실리콘 박막의 생산
  • 표면 개질:** 부식 저항성, 내마모성, 생체 적합성 등의 표면 특성 향상
  • 나노 기술:** 나노 입자, 나노 와이어, 박막을 포함한 나노 물질의 합성




◼Technical specifications





◼Features


플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD) 코팅 기계는 생산성을 향상시키고 탁월한 결과를 제공하는 수많은 장점을 제공합니다.


  • 저온 증착: 전통적인 CVD 방법보다 훨씬 낮은 온도에서 고품질의 필름을 형성할 수 있어, 섬세한 기질에 적합합니다.
  • 높은 증착률: 필름을 빠르게 증착하여 효율성을 극대화함으로써 생산 시간을 줄이고 생산량을 늘립니다.
  • 균일하고 균열에 강한 필름: 일관된 필름 특성을 보장하고 균열 위험을 최소화하여, 신뢰할 수 있고 내구성 있는 코팅을 가능하게 합니다.
  • 기판에 대한 우수한 접착력: 필름과 기판 사이에 강한 접착력을 제공하여 오래 지속되는 성능을 보장하고 박리를 방지합니다.
  • 다목적 코팅 기능: SiO2, SiNx, SiOxNy를 포함한 다양한 재료의 증착을 가능하게 하여 다양한 응용 분야의 요구 사항을 충족합니다.
  • 복잡한 형상을 위한 맞춤화: 복잡한 모양의 기판을 수용하여 균일한 코팅과 최적의 성능을 보장합니다.
  • 낮은 유지보수 비용과 용이한 설치: 가동 중단 시간을 최소화하고 설정을 단순화하여 생산성과 비용 효율성을 향상시킵니다.



◼Principle


플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)은 증착 과정에서 플라즈마를 사용하여 화학 반응을 촉진함으로써 저온에서 고품질의 고체 필름을 형성할 수 있도록 합니다. PECVD 장비는 고에너지 플라즈마를 사용하여 반응 속도를 높이고 반응 온도를 낮춥니다. 이 기술은 LED 조명, 전력 반도체, MEMS에 널리 사용됩니다. SiO2, SiNx, SiOxNy 및 기타 매체 필름의 증착과 복합 기판에 SiO 두꺼운 필름의

고속 증착이 가능합니다. PECVD는 우수한 필름 형성 품질을 제공하고, 핀홀을 최소화하며, 균열을 줄여 무정형 및 미세 결정질 실리콘 박막 태양 전지 장치 생산에 적합합니다.



◼Advantage


  • 다양한 재료의 증착 능력: PECVD는 다이아몬드와 같은 탄소, 실리콘 화합물, 금속 산화물을 포함한 다양한 재료를 증착할 수 있어, 특정한 특성을 가진 필름을 만들 수 있습니다.
  • 저온 작동: PECVD는 저온(일반적으로 300-450°C)에서 작동하기 때문에 열에 민감한 기질에 적합합니다.
  • 고품질의 박막: PECVD는 균일성, 두께 조절, 균열 저항성이 뛰어난 박막을 생산합니다.
  • 우수한 접착력: PECVD로 증착된 박막은 기판에 대한 접착력이 강해 내구성과 신뢰성을 보장합니다.
  • 컨포멀 코팅: PECVD는 복잡한 형상의 코팅이 가능해 균일한 커버리지와 보호 기능을 제공합니다.
  • 높은 증착률: PECVD는 빠른 증착률을 제공해 생산성을 높이고 생산 시간을 단축합니다.
  • 낮은 유지보수 비용: PECVD 시스템은 유지보수가 적게 필요하도록 설계되어, 가동 중단 시간을 최소화하고 가동 시간을 극대화합니다.
  • 쉬운 설치: PECVD 장비는 설치가 비교적 쉽고, 기존 생산 라인에 통합하기가 쉽습니다.
  • 견고한 설계: PECVD 시스템은 견고한 설계로 만들어져 안정성과 오래 지속되는 성능을 보장합니다.
  • 긴 작동 수명: PECVD 시스템은 오래 사용할 수 있도록 설계되어, 장기적인 박막 증착 요구에 맞는 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다.

 Warnings


운영자의 안전이 가장 중요한 문제입니다! 주의를 기울여 장비를 작동하세요. 인화성 및 폭발성 또는 독성 가스로 작업하는 것은 매우 위험하므로 작업자는 장비를 시작하기 전에 필요한 모든 예방 조치를 취해야 합니다. 원자로 또는 챔버 내부에서 양압으로 작업하는 것은 위험하므로 작업자는 안전 절차를 엄격하게 준수해야 합니다. 특히 진공 상태에서 공기 반응성 물질로 작업할 때는 더욱 주의를 기울여야 합니다. 누출이 발생하면 장치 내부로 공기가 유입되어 격렬한 반응이 일어날 수 있습니다.