◼Introduction
경사 회전식 PECVD 튜브 furnace는 회전식 furnace 튜브와 플라즈마 발생기를 사용하여 기체 방전에서 화학 반응을 유도하는 플라즈마 강화 회전식 화학 기상 증착 시스템입니다. 이 공정은 재료에
고체 침전물을 형성하는 데 사용할 수 있는 다양한 화학 종을 생성합니다. 이 기계에는 3방향 질량 유량계와 가스 혼합 장치가 장착되어 있어 공정에서 사용되는 가스를 정밀하게 제어할 수 있습니다.
회전식 furnace 튜브는 재료의 균일한 가열과 혼합을 보장하고, 플라즈마 발생기는 화학 반응에 필요한 활성화 에너지를 제공합니다. 이 기계에는 또한 furnace 튜브를 진공 상태로 빠르게 배출할 수 있는 고성능 기계식 펌프가 장착되어 있습니다.
◼Applications
PECVD 튜브 furnace 기계는 다음과 같은 다양한 분야에서 사용됩니다.
- 반도체 제조:** PECVD는 반도체 웨이퍼에 실리콘 질화물, 이산화 규소, 폴리실리콘 등의 물질을 박막으로 증착하는 데 사용됩니다.
- 태양 전지 제조:** PECVD는 태양 전지에 카드뮴 텔루라이드, 구리 인듐 갈륨 셀레늄 등의 물질을 박막으로 증착하는 데 사용됩니다.
- 평면 패널 디스플레이 제조:** PECVD는 평면 패널 디스플레이에 인듐 주석 산화물과 산화 아연과 같은 물질의 박막을 증착하는 데 사용됩니다.
- 광학 코팅:** PECVD는 광학 부품에 이산화 티타늄과 질화규소와 같은 물질의 박막을 증착하는 데 사용됩니다.
- 의료 기기 제조:** PECVD는 의료 기기에 하이드록시아파타이트와 질화 티타늄과 같은 물질의 박막을 증착하는 데 사용됩니다.
◼Features
경사 회전식 PECVD 튜브 furnace는 연구자와 엔지니어들이 재료 가공 분야에서 비교할 수 없는 결과를 얻을 수 있도록 지원하는 다양한 첨단 기능을 자랑합니다.
- 정확한 온도 제어: PID 프로그래밍 가능 온도 제어로 탁월한 정확성과 안정성을 보장하여 최적의 재료 특성을 위한 정확한 가열 및 냉각 사이클을 가능하게 합니다.
- 다용도 플라즈마 소스: 5-500W의 광범위한 전력 범위를 가진 RF 플라즈마 소스는 플라즈마 생성에 대한 유연성과 제어력을 제공하여 효율적이고 맞춤형 재료 증착을 촉진합니다.
- 균일한 혼합 및 가열: 가변 직경 설계와 혼합 배플을 특징으로 하는 회전식 furnace 튜브는 재료의 철저한 혼합과 균일한 가열을 보장하여 일관되고 고품질의 증착 결과를 제공합니다.
- 자동 슬라이딩 시스템: Furnace 챔버의 슬라이딩 시스템은 신속한 가열과 냉각을 가능하게 하여 처리 시간을 최소화하고 생산성을 향상시킵니다.
- 정확한 가스 제어: 고정밀 MFC 질량 유량계와 가스 혼합 장치를 통해 가스 구성과 유량을 정밀하게 제어할 수 있어 특정 재료와 응용 분야에 대한 증착 공정을 최적화할 수 있습니다.
- 견고한 구조: 포트를 조정할 수 있는 스테인리스 스틸 진공 플랜지는 안정적인 밀봉과 높은 진공 수준을 보장하여 깨끗한 증착 환경을 유지합니다.
- 직관적인 인터페이스: 7인치 TFT 터치스크린을 갖춘 CTF Pro 컨트롤러는 사용자 친화적인 프로그램 설정, 데이터 분석, 원격 제어 기능을 제공하여 작업과 데이터 관리를 간소화합니다.
◼Principle
경사 회전식 PECVD 튜브 furnace는 플라즈마 강화 회전식 화학 기상 증착 시스템입니다. Furnace 튜브는 혼합 배플이 있는 가변 직경 설계를 채택하여 균일한 가열과 효율적인 재료 혼합을 가능하게
합니다. 유도 결합을 통해 연결된 플라즈마 발생기는 퍼니스 튜브를 덮어 활성화 에너지를 증가시키고 반응 온도를 낮추며 효율성을 향상시킵니다. 이 장비는 3방향 질량 유량계와 가스 혼합 장치를
사용하여 가스를 정밀하게 제어합니다. 또한, 고성능 기계식 펌프를 사용하여 노관을 신속하게 배기할 수 있어 다양한 CVD 공정에 적합한 진공 환경을 조성할 수 있습니다.
◼Advantage
- RF 플라즈마 자동 매칭 소스, 넓은 5-500W 출력 전력 범위, 안정적인 출력
- 고속 가열 및 단시간 냉각을 위한 퍼니스 챔버 슬라이딩 시스템, 보조 급속 냉각 및 자동 슬라이딩 이동 가능
- PID 프로그래밍 가능 온도 제어, 우수한 제어 정확도, 원격 제어 및 중앙 집중식 제어 지원
- 고정밀 MFC 질량 유량계 제어, 소스 가스 사전 혼합 및 안정적인 가스 공급 속도
- 다양한 진공 펌프 스테이션 설정에 맞출 수 있는 다양한 어댑터 포트, 우수한 밀폐성, 높은 진공도
- CTF Pro는 7인치 TFT 터치스크린 컨트롤러를 적용하여, 보다 친숙한 프로그램 설정과 기록 데이터 분석 가능
- 낮은 유지보수 비용, 쉬운 설치, 견고한 디자인, 최고의 성능, 긴 사용 수명
◼Safety Advantage
- Kintek 튜브 furnace는 과전류 보호 및 과열 경보 기능을 갖추고 있어, Furnace가 자동으로 전원을 끕니다.
- Furnace는 열전대 감지 기능을 내장하고 있어, 열전대가 손상되거나 고장이 감지되면 가열을 중단하고 경보를 울립니다.
- PE Pro는 정전 후 전원이 복구되면 furnace가 가열 프로그램을 재개하는 정전 재시작 기능을 지원합니다.
◼Technical specifications
| Furnace 모델 | PE-1600-60 |
|---|
| 최대 온도 | 1600℃ |
| 지속 작동 온도 | 1550℃ |
| Furnace 튜브 소재 | 고순도 Al2O3 튜브 |
| Furnace 튜브 직경 | 60mm |
Heating zone length
| 2x300mm |
| 챔버 소재 | 일본 알루미나 섬유 |
| 발열체 | 이규화몰리브덴(MoSi2) |
| 가열 속도 | 0-10℃/min |
| 열전대 | B type |
| 온도 컨트롤러 | 디지털 PID 컨트롤러/터치스크린 PID 컨트롤러 |
출력 전력
| 5 -500W 조정 가능, 안정도 ± 1%
|
무선 주파수 (RF)
| 13.56 MHz 안정도 ±0.005%
|
반성력
| 350W max.
|
| 매칭 | Automatic
|
| 소음 | <50 dB
|
냉각
| 공랭식 냉각 (Air cooling)
|
| Flow meter | MFC 질량 flow meter
|
Gas channels
| 4 channels |
유량
| MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0- 100SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2
|
Linearity (선형성)
| ±0.5% F.S.
|
Repeatability (반복성)
| ±0.2% F.S.
|
파이프 라인 및 밸브
| 스테인리스 스틸 |
최대 작동 압력
| 0.45MPa
|
유량계 컨트롤러
| 디지털 노브 컨트롤러/터치스크린 컨트롤러
|
| 진공 펌프 | 회전 날개 펌프 |
| 펌프 유량 | 4L/S
|
| 진공 흡입 포트 | KF25 |
| 진공 게이지 | Pirani/Resistance silicon vacuum gauge
|
| 정격 진공 압력 | 10Pa |
진공 펌프
| Rotary vane pump+Molecular pump
|
펌프 유량
| 4L/S+110L/S
|
진공 흡입 포트
| KF25
|
| 진공 게이지 | 복합 진공 게이지
|
| 정격 진공 압력 | 6x10-5Pa
|
◼Standard Package
| No. | 구성품 | 수량 |
| 1 | Furnace | 1 |
| 2 | 석영관 | 1 |
| 3 | 진공관 | 2 |
| 4 | 튜브 열 블록 | 2 |
| 5 | 튜브 열 블록 후크 | 1 |
| 6 | 내열 장갑 | 1 |
| 7 | RF 플라즈마 소스 | 1 |
| 8 | Precise gas control
| 1 |
| 9 | 진공 장치 | 1 |
| 10 | 사용 설명서
| 1 |
◼Optional Setup
- 튜브 가스 검출 및 모니터링(예: H2, O2 등)
- 독립적인 용광로 온도 모니터링 및 기록
- PC 원격 제어 및 데이터 내보내기를 위한 RS 485 통신 포트
- 질량 유량계 및 부유식 유량계와 같은 가스 공급 유량 제어 장치 삽입
- 다양한 사용자 친화적 기능을 갖춘 터치스크린 온도 조절기
- 베인 진공 펌프, 분자 펌프, 확산 펌프와 같은 고진공 펌프 스테이션 설정
