◼Introduction
슬라이드 PECVD 가스화 튜브로는 다양한 박막 증착 응용 분야를 위해 설계된 다목적 고성능 시스템입니다. 500W RF 플라즈마 소스, 슬라이드 아웃 퍼니스, 정밀한 가스 흐름
제어, 진공 스테이션이 특징입니다. 이 시스템은 자동 플라즈마 매칭, 고속 가열 및 냉각, 프로그래밍 가능한 온도 제어, 사용자 친화적인 인터페이스와 같은 장점을 제공합니다. 전자, 반도체, 광학 등
다양한 산업 분야에서 박막 증착을 위한 연구 및 생산 환경에서 널리 사용되고 있습니다.
◼Applications
슬라이드 PECVD 가스화 튜브로는 다음과 같은 분야에서 사용됩니다.
- 화학 기상 증착(CVD)
- 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)
- 박막 증착
- 태양 전지 제조
- 반도체 처리
- 나노 기술
- 재료 과학
- 연구 개발
◼온도 조절 및 설치가 가능한 CVD 시스템
액체 가스화 장치가 있는 슬라이드 PECVD 시스템
(1. 진공 센서 2. RF 플라즈마 3. 용광로 4. 릴리프 밸브 5. 플랩퍼 밸브 6. 열 벨트 7. 유량계 8. 액체 가스화 장치 9. 가스 스테이션 10. 캐비닛)
이중 분할 튜브 furnace가 탑재된 슬라이드 PECVD 시스템
직경이 큰 튜브 Split PECVD 시스템
4개의 채널 고진공 스테이션이 있는 MFC PECVD 시스템
◼Features
슬라이드 PECVD 가스화 튜브로는 사용자에게 다음과 같은 다양한 이점을 제공합니다.
- 태양 전지 웨이퍼의 발전력 향상: 혁신적인 흑연 보트 구조는 태양 전지의 발전량을 크게 향상시킵니다.
- 관형 PECVD 전지의 색상 차이 제거: 이 장비는 관형 PECVD 전지의 색상 변화 문제를 효과적으로 해결합니다.
- 넓은 출력 전력 범위(5-500W): RF 플라즈마 자동 매칭 소스는 다양한 출력 전력 범위를 제공하여 다양한 응용 분야에 최적의 성능을 보장합니다.
- 빠른 가열 및 냉각: Furnace 챔버 슬라이딩 시스템은 빠른 가열과 냉각을 가능하게 하여 처리 시간을 단축시킵니다. 보조 강제 공기 순환은 냉각 속도를 더욱 가속화합니다.
- 자동 슬라이딩 이동: 선택 사항인 슬라이딩 이동 기능은 자동 조작을 가능하게 하여 효율성을 높이고 수동 개입을 줄입니다.
- 정확한 온도 제어: PID 프로그래밍 가능 온도 제어는 정확한 온도 조절을 보장하여 원격 및 중앙 집중식 제어를 지원함으로써 편의성을 더해줍니다.
- 고정밀 MFC 질량 유량계 제어: MFC 질량 유량계는 공급 가스를 정밀하게 제어하여 안정적이고 일관된 가스 공급을 보장합니다.
- 다용도 진공 스테이션: 여러 개의 어댑터 포트가 있는 스테인리스 스틸 진공 플랜지는 다양한 진공 펌프 스테이션 구성을 수용하여 높은 진공도를 보장합니다.
- 사용자 친화적 인터페이스: CTF Pro 7인치 TFT 터치스크린 컨트롤러는 프로그램 설정을 단순화하고 과거 데이터의 쉬운 분석을 가능하게 합니다.
◼Principle
슬라이드 PECVD 가스화 튜브로는 저온 플라즈마를 사용하여 공정 챔버의 음극(샘플 트레이)에서 glow discharge를 생성합니다. Glow discharg(또는 다른 열원)은 샘플의 온도를 미리 정해진
수준으로 올립니다. 그런 다음, 제어된 양의 공정 가스가 유입되어 화학 및 플라즈마 반응을 통해 샘플 표면에 고체 필름을 형성합니다.
◼Advantage
- RF 플라즈마 자동 매칭 소스, 넓은 5-500W 출력 전력 범위, 안정적인 출력
- 고속 가열 및 단시간 냉각을 위한 furnace 챔버 슬라이딩 시스템, 보조 급속 냉각 및 자동 슬라이딩 이동 가능
- PID 프로그래밍 가능 온도 제어, 우수한 제어 정확도, 원격 제어 및 중앙 집중식 제어 지원
- 고정밀 MFC 질량 유량계 제어, 소스 가스 사전 혼합 및 안정적인 가스 공급 속도
- 다양한 진공 펌프 스테이션 설정에 맞출 수 있는 다양한 어댑터 포트, 우수한 밀폐성, 높은 진공도
- CTF Pro는 7인치 TFT 터치스크린 컨트롤러를 적용하여, 보다 친숙한 프로그램 설정과 이력 데이터 분석을 가능하게 합니다.
◼Safety Advantage
- Kintek 튜브 furnace는 과전류 보호 및 과열 경보 기능을 갖추고 있어, Furnace가 자동으로 전원을 끕니다.
- Furnace는 열전대 감지 기능을 내장하고 있어, 열전대가 손상되거나 고장이 감지되면 가열을 중단하고 경보를 울립니다.
- PE Pro는 정전 후 전원이 복구되면 furnace가 가열 프로그램을 재개하는 정전 재시작 기능을 지원합니다.
◼Technical specifications
| Furnace 모델 | KT-PE12-60 |
|---|
| 최대 온도 | 1200℃ |
| 지속 작동 온도 | 1100℃ |
| Furnace 튜브 소재 | 고순도 석영 |
| Furnace 튜브 직경 | 60mm |
Heating zone length
| 1x450mm |
| 챔버 소재 | 일본 알루미나 섬유 |
| 발열체 | Cr2Al2Mo2 와이어 코일 |
| 가열 속도 | 0-20℃/min |
| 열전대 | Build in K type |
| 온도 컨트롤러 | 디지털 PID 컨트롤러/터치스크린 PID 컨트롤러 |
| 온도 제어 정확성 | ±1℃ |
Sliding distance
| 600mm
|
출력 전력
| 5 -500W 조정 가능, 안정도 ± 1%
|
무선 주파수 (RF)
| 13.56 MHz 안정도 ±0.005%
|
반성력
| 350W max.
|
| 매칭 | Automatic
|
| 소음 | <50 dB
|
냉각
| 공랭식 냉각 (Air cooling)
|
| Flow meter | MFC mass flow meter
|
Gas channels
| 4 channels |
유량
| MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0- 100SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2
|
Linearity (선형성)
| ±0.5% F.S.
|
Repeatability (반복성)
| ±0.2% F.S.
|
파이프 라인 및 밸브
| 스테인리스 스틸 |
최대 작동 압력
| 0.45MPa
|
유량계 컨트롤러
| 디지털 노브 컨트롤러/터치스크린 컨트롤러
|
| 진공 펌프 | Rotary vane vacuum pump
|
| 펌프 유량 | 4L/S
|
| 진공 흡입 포트 | KF25 |
| 진공 게이지 | Pirani/Resistance silicon vacuum gauge
|
| 정격 진공 압력 | 10Pa |
진공 펌프
| Rotary vane pump+Molecular pump
|
펌프 유량
| 4L/S+110L/S
|
진공 흡입 포트
| KF25
|
| 진공 게이지 | 복합 진공 게이지
|
| 정격 진공 압력 | 6x10-5Pa
|
◼Standard Package
| No. | 구성품 | 수량 |
| 1 | Furnace | 1 |
| 2 | 석영관 | 1 |
| 3 | 진공관 | 2 |
| 4 | 튜브 열 블록 | 2 |
| 5 | 튜브 열 블록 후크 | 1 |
| 6 | 내열 장갑 | 1 |
| 7 | RF 플라즈마 소스 | 1 |
| 8 | Precise gas control | 1 |
| 9 | 진공 장치 | 1 |
| 10 | 사용 설명서
| 1 |
◼Optional Setup
- 튜브 가스 검출 및 모니터링(예: H2, O2 등)
- 독립적인 용광로 온도 모니터링 및 기록
- PC 원격 제어 및 데이터 내보내기를 위한 RS 485 통신 포트
- 질량 유량계 및 부유식 유량계와 같은 가스 공급 유량 제어 장치 삽입
- 다양한 사용자 친화적 기능을 갖춘 터치스크린 온도 조절기
- 베인 진공 펌프, 분자 펌프, 확산 펌프와 같은 고진공 펌프 스테이션 설정
