◼Introduction
CVD 튜브 furnace는 화학 기상 증착(CVD) 공정에 사용되는 고온 furnace입니다. 이 furnace는 정밀한 온도 제어를 가능하게 하는 다중 가열 구역, CVD 공정을 위한 진공 환경을 조성하는 고진공
펌프, Furnace 튜브에 가스를 혼합하고 투입하는 질량 유량 가스 제어 스테이션을 특징으로 합니다. 이 용광로는 최대 1200°C의 온도에 도달할 수 있으며, 최종 진공도는 10^-7 torr입니다. 반도체
산업에서 절연 재료, 금속 재료, 금속 합금 재료 등 다양한 재료의 박막을 증착하는 데 일반적으로 사용됩니다.
◼Applications
Multi-Zone CVD 튜브 furnace는 다음과 같은 다양한 연구 및 산업 분야에서 널리 사용되고 있습니다.
- 나노 물질 합성: CVD 튜브 furnace는 나노 와이어의 성장과 나노 필름의 준비에 이상적이며, 이는 독특한 특성을 가진 첨단 소재 개발에 필수적입니다.
- 코팅 기술: 다양한 소재의 표면 특성을 향상시키는 데 필수적인 금속 필름, 세라믹 필름, 복합 필름의 증착에 널리 사용됩니다.
- 배터리 재료 가공: 이 용광로는 고성능 에너지 저장 장치 생산의 중요한 단계인 배터리 재료의 건조 및 소결에 적합합니다.
- 고온 소결: 재료의 치밀화에 필요한 고온 대기 소결 및 대기 환원 공정에 사용됩니다.
- 진공 코팅: 용광로의 고진공 기능은 코팅의 순도와 품질이 가장 중요한 진공 코팅 분야에 적합합니다.
- 연구 및 개발: 대학과 과학 연구 기관은 이 장비를 활용하여 CVD/CVI(화학 기상 침투) 연구를 포함한 재료 과학 분야의 광범위한 실험을 수행합니다.
- 산업용 응용: 산업 환경에서 CVD 튜브 furnace는 반도체 산업과 같이 정밀한 온도 제어와 가스 관리가 필요한 공정에 사용됩니다.
- 플라즈마 세척 및 에칭: 이 장비의 다목적성은 증착 전에 기판을 준비하는 데 필수적인 플라즈마 세척 및 에칭을 포함하도록 기능을 확장할 수 있게 해줍니다.
◼Principle
화학 기상 증착(CVD)은 기체 상태에서 고체 물질을 기판 위에 증착하는 박막 증착 기술입니다. 기판은 고온으로 가열되고, 원하는 물질을 포함하는 기체가 챔버로 유입됩니다. 기체는 기판과 반응하고,
원하는 물질이 표면에 증착됩니다.
CVD 튜브 furnace는 CVD 공정에 사용됩니다. 이 furnace는 일반적으로 석영 또는 알루미나로 만들어진 가열된 튜브로 구성되어 있습니다. 기판은 튜브 안에 놓이고, 가스는 튜브 안으로 유입됩니다.
가스는 튜브를 통과하면서 기판과 반응하여 원하는 물질을 표면에 증착시킵니다.
CVD 튜브 furnace는 금속, 산화물, 질화물, 탄화물을 포함한 다양한 물질을 증착하는 데 사용할 수 있습니다. 이 공정은 반도체, 태양 전지, 기타 전자 장치의 제조에 사용됩니다.
◼온도 조절 및 설치가 가능한 CVD 시스템
1. 압력 센서 2. 압력 센서 3. 실란 4. 아세틸렌 5. 질소 6. 액체 증기 7. 백업 가스 8. 압력 게이지
유동층용 수직 CVD furnace
1600℃ CVD furnace, sample holder slide rail
빠른 열처리 슬라이드 반응 튜브가 있는 RTP CVD furnace
배출 모니터와 발화 시스템이 있는 소형 CVD furnace
◼Features
CVD 튜브 furnace는 연구 및 산업 분야의 다양한 응용 분야에 이상적인 다목적 고성능 furnace입니다. 이 기기는 고급 기능과 성능을 갖추고 있어 작업에서 최상의 결과를 얻을 수 있도록 도와줍니다.
- Multi-zone temperature control: 이 furnace는 다중 구역 온도 조절 기능을 갖추고 있어 furnace의 여러 구역에서 온도를 정밀하게 조절할 수 있습니다. 이것은 특정 온도 프로파일 또는 기울기를 만들어야 하는 응용 프로그램에 필수적입니다.
- 고온 기능: 이 용광로는 최대 1200°C의 온도에 도달할 수 있어 다양한 용도에 이상적입니다. 이 고온 기능 덕분에 CVD, 확산, 기타 열처리와 같은 까다로운 공정을 수행할 수 있습니다.
- 진공 또는 대기 보호: 이 용광로는 진공 또는 대기 보호 상태에서 사용할 수 있어 다양한 용도에 적합합니다. 이러한 다기능성 덕분에 특정 대기 또는 진공 환경이 필요한 공정을 수행할 수 있습니다.
- 용이한 사용: 이 furnace는 사용하기 쉬운 인터페이스와 직관적인 조작법을 갖추고 있어 사용이 쉽습니다. 따라서 경험이 부족한 사용자도 쉽게 설치하고 조작할 수 있습니다.
- 컴팩트한 디자인: 이 furnace는 작고 가벼워서 다양한 공간에 설치하고 사용하기 쉽습니다. 이러한 디자인 덕분에 실험실과 공간이 제한된 환경에서 사용하기에 이상적입니다.
◼Principle
CVD 튜브 furnace는 화학 기상 증착 원리를 기반으로 작동하며, 고진공 시스템과 정밀한 질량 유량 제어기를 활용하여 제어된 조건에서 다양한 필름의 증착을 용이하게 합니다.
이 장치는 높은 증착 속도를 위한 무선 주파수 글로우 기술과 균일한 필름 분배를 위한 첨단 가열 기술을 사용합니다.
◼Advantages
- 높은 온도 균일성: 다중 구역 설계로 온도가 전기로 전체에 고르게 분포되도록 보장하며, 이는 CVD 공정에 매우 중요합니다.
- 정확한 온도 제어: 디지털 온도 조절기로 전기로 온도를 정밀하게 제어할 수 있으며, 이는 반복 가능하고 신뢰할 수 있는 결과를 얻기 위해 필수적입니다.
- 높은 진공 능력: 10^-7 torr의 궁극적인 진공 속도로 반응실에서 오염 물질을 제거할 수 있으며, 이는 고품질 CVD 필름에 필요합니다.
- 간편한 사용법: 사용자 친화적인 인터페이스로 초보 사용자도 쉽게 사용할 수 있습니다.
- 다용도: 이 furnace는 금속 증착, 반도체 공정, 탄소 나노튜브 합성 등 다양한 CVD 공정에 사용할 수 있습니다.
- 컴팩트한 디자인: 컴팩트한 디자인으로 공간이 협소한 실험실에서도 사용하기 좋습니다.
- 합리적인 가격: 경쟁력 있는 가격으로 가성비가 뛰어납니다.
◼Technical specifications
| Furnace 모델 | KT-CTF16-60 |
|---|
| 최대 온도 | 1600℃ |
| 지속 작동 온도 | 1550℃ |
| Furnace 튜브 소재 | 고순도 Al2O3 튜브 |
| Furnace 튜브 직경 | 60mm |
Heating zone
| 3x330mm |
| 챔버 소재 | 알루미나 다결정질 섬유 |
| 발열체 | 탄화규소 |
| 가열 속도 | 0-10℃/min |
| 열전대 | S type |
| 온도 컨트롤러 | 디지털 PID 컨트롤러/터치스크린 PID 컨트롤러 |
Flow meter
| MFC 질량 유량계
|
Gas channels
| 3 channels
|
| 유량 (Flow rate) | MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0- 100SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2
|
Linearity (선형성)
| ±0.5% F.S.
|
Repeatability (반복성)
| ±0.2% F.S.
|
파이프 라인 및 밸브
| 스테인리스 스틸 |
최대 작동 압력
| 0.45MPa
|
유량계 컨트롤러
| 디지털 노브 컨트롤러/터치스크린 컨트롤러
|
| 진공 게이지 | 복합 진공 게이지 |
진공 펌프
| 회전 날개 진공 펌프
|
펌프 유량
| 4L/S
|
진공 흡입 포트
| KF25
|
진공 게이지
| Pirani/Resistance silicon vacuum gauge
|
정격 진공 압력
| 10Pa
|
진공 펌프
| Rotary vane pump+Molecular pump
|
펌프 유량
| 4L/S+110L/S
|
진공 흡입 포트
| KF25
|
| 진공 게이지 | 복합 진공 게이지
|
정격 진공 압력
| 6x10-5Pa
|
◼Standard Package
| No. | 구성품 | 수량 |
| 1 | Furnace | 1 |
| 2 | 석영관 | 1 |
| 3 | 진공관 | 2 |
| 4 | 튜브 열 블록 | 2 |
| 5 | 튜브 열 블록 후크 | 1 |
| 6 | 내열 장갑 | 1 |
| 7 | Precise gas control
| 1 |
| 8 | 진공 청소기 | 1 |
| 9 | 사용 설명서 | 1 |
◼Optional Setup
- 튜브 가스 검출 및 모니터링(예: H2, O2 등)
- 독립적인 용광로 온도 모니터링 및 기록
- PC 원격 제어 및 데이터 내보내기를 위한 RS 485 통신 포트
- 질량 유량계 및 부유식 유량계와 같은 가스 공급 유량 제어 장치 삽입
- 다양한 사용자 친화적 기능을 갖춘 터치스크린 온도 조절기
- 베인 진공 펌프, 분자 펌프, 확산 펌프와 같은 고진공 펌프 스테이션 설정
