[Kintek Solution] Multi Heating Zones CVD Tube Furnace Machine Chemical Vapor Deposition Chamber System Equipment


최대 온도

1400 ℃

지속 작업 온도

1300 ℃

Furnace 튜브 직경
60 mm
Heating Zone
2x450 mm
가열 속도
0-10 ℃/min


제품명   KT-CTF14

제조사    Kintek Solution

제조국    China


◼Introduction


Multi-Zone CVD 튜브 furnace는 화학 기상 증착(CVD)에 사용되는 실험실 장비의 한 유형입니다. CVD는 기체 또는 증기의 화학 반응에 의해 기판에 박막이 증착되는 과정입니다.

Multi-Zone CVD 튜브 furnace는 여러 개의 가열 구역을 가지고 있어서 furnace 내의 온도 프로파일을 정밀하게 제어할 수 있습니다. 온도가 증착된 박막의 특성에 영향을 미칠 수 있기 때문에,

이것은 많은 CVD 공정에서 중요합니다.


Multi-Zone CVD 튜브 furnace는 일반적으로 연구 개발 목적으로 사용되지만, 생산 분야에서도 사용할 수 있습니다. 다양한 크기와 구성으로 제공되며, 특정 응용 분야의 특정 요구 사항에 맞게

맞춤화할 수 있습니다.



◼Applications


멀티 가열 구역 CVD 튜브 furnace CVD 기계는 다음과 같은 다양한 분야에서 널리 사용됩니다.


  • 화학 기상 증착(CVD): 전자 장치, 반도체, 태양 전지용 박막 성장
  • 확산: 반도체와 금속의 도핑
  • 어닐링: 물질의 특성을 개선하기 위한 열처리
  • 소결: 열과 압력을 통해 물질을 접합
  • 열처리: 다양한 목적을 위한 물질의 제어된 가열과 냉각



Detail & Parts


5 heating zones CVD furnace with high vacuum pump


4 heating zones split cvd furnace.


2 heating zones  CVD furnace with touch screen MFC gas station



1600C 3 heating zones CVD furnace with water cooling flange



관형 PECVD 장비의 전형적인 반응실 구조의 도식도 1. 배기구 2. 테일 엔드 플랜지 3. 테일 수냉 플랜지 4. 테일 실링 플랜지 5. 테일 고정 플랜지 6. 전극봉 7. 흑연 보트 8. 석영로 튜브 

9. 전면 고정 플랜지 10. 전면 수냉 플랜지 11. 전면 공기 흡입구 플랜지 12. Furnace 도어



◼Features


'Multi-Zone' CVD 튜브 furnace는 사용자에게 다음과 같은 다양한 혜택을 제공합니다.


  • Independent heating zones: 이 기능은 더 긴 일정 온도 필드와 제어된 온도 구배를 만들 수 있도록 해줍니다. 이 기능은 정확한 온도 제어가 중요한 분야에 이상적입니다.
  • PID 프로그래밍 가능 온도 제어: 이 기능은 뛰어난 제어 정확도를 제공하고 원격 제어 및 중앙 집중식 제어를 지원합니다. 이 기능은 어디서든 용광로의 온도를 쉽게 모니터링하고 조정할 수 있도록 해줍니다.
  • 고정밀 MFC 질량 유량계 제어: 이 기능은 안정적인 가스 공급 속도를 보장합니다. 가스 흐름을 정밀하게 제어해야 하는 응용 프로그램에 적합합니다.
  • 다양한 어댑터 포트가 있는 스테인리스 스틸 진공 플랜지: 우수한 밀폐성과 높은 진공도를 제공합니다. 높은 진공도가 필요한 응용 프로그램에 적합합니다.
  • KT-CTF14 Pro는 7인치 TFT 터치스크린 컨트롤러를 적용: 이 컨트롤러를 사용하면 프로그램을 쉽게 설정하고 기록 데이터를 분석할 수 있습니다. 사용자 친화적인 조작이 중요한 응용 프로그램에 적합합니다.



◼Principle


스플릿 진공 CVD 튜브 furnace는 화학 기상 증착(CVD) 공정에 사용되는 고온 진공로입니다. CVD는 기체 또는 증기의 화학 반응에 의해 기판에 물질의 박막이 증착되는

공정입니다.


스플릿 진공 CVD 튜브 furnace는 분할로 챔버를 사용하여 CVD 공정 중에 기판에 쉽게 접근할 수 있도록 합니다.


진공 스테이션은 용광로 챔버에 진공을 생성하는 데 사용되며, 불순물을 제거하고 증착된 필름의 품질을 향상시키는 데 도움이 됩니다.



◼Advantages


  • 독립적인 가열 구역: 더 긴 일정 온도 필드와 제어된 온도 구배를 생성
  • PID 프로그래밍 가능 온도 제어: 탁월한 제어 정확도, 원격 및 중앙 집중식 제어 지원
  • 고정밀 MFC 질량 유량계 제어: 가스 원료 사전 혼합 및 안정적인 가스 공급 속도
  • 스테인리스 스틸 진공 플랜지: 다양한 진공 펌프 스테이션 설정을 위한 다양한 어댑팅 포트, 우수한 밀봉, 높은 진공도
  • KT-CTF14 Pro 컨트롤러: 7인치 TFT 터치스크린, 사용자 친화적인 프로그램 설정, 이력 데이터 분석
  • 다목적: 진공 상태 및 대기 보호 상태에서 CVD, 확산 및 기타 열처리
  • 에너지 절약: 세라믹 섬유 소재와 이중층 구조로 외부 온도를 낮춤
  • 긴 온도 영역: 조작이 용이함
  • 안정적인 밀봉: 종합 성능 지수가 높음
  • 재료 옵션: 내열성 강철, 석영 유리, 세라믹으로 제작된 가열관
  • 폭넓은 응용 분야: 원소 분석 및 결정, 소형 강철 조각의 담금질, 어닐링, 템퍼링, 전자 세라믹, 기타 신소재



◼Technical specifications


Furnace 모델KT-CTF14-60
최대 온도

1400℃

지속 작동 온도

1300℃

Furnace 튜브 소재

고순도 Al2O3 튜브

Furnace 튜브 직경

60mm

Heating Zone

2x450mm

챔버 소재

알루미나 다결정질 섬유

발열체

탄화규소

가열 속도

0-10℃/min

열전대

S type

온도 컨트롤러

디지털 PID 컨트롤러/터치스크린 PID 컨트롤러

온도 제어 정확성±1℃
표준 진공 장치(선택 사항)
진공 펌프회전 날개 진공 펌프
펌프 유량4L/S
진공 흡입 포트KF25
진공 게이지Pirani/Resistance silicon vacuum gauge
정격 진공 압력10Pa
고진공 장치(선택 사항)
진공 펌프Rotary vane pump+Molecular pump
펌프 유량4L/S+110L/S
진공 흡입 포트KF25
진공 게이지복합 진공 게이지
정격 진공 압력6x10-5Pa
상기 사양과 설정은 커스터마이징 가능



◼Standard Package


No.구성품수량
1Furnace1
2석영관1
3진공관2
4튜브 열 블록2
5튜브 열 블록 후크1
6내열 장갑1
7Precise gas control
1
8진공 청소기1
9사용 설명서1



◼Optional Setup


  • 튜브 가스 검출 및 모니터링(예: H2, O2 등)
  • 독립적인 용광로 온도 모니터링 및 기록
  • PC 원격 제어 및 데이터 내보내기를 위한 RS 485 통신 포트
  • 질량 유량계 및 부유식 유량계와 같은 가스 공급 유량 제어 장치 삽입
  • 다양한 사용자 친화적 기능을 갖춘 터치스크린 온도 조절기
  • 베인 진공 펌프, 분자 펌프, 확산 펌프와 같은 고진공 펌프 스테이션 설정

 Warnings


운영자의 안전이 가장 중요한 문제입니다! 주의를 기울여 장비를 작동하세요. 인화성 및 폭발성 또는 독성 가스로 작업하는 것은 매우 위험하므로 작업자는 장비를 시작하기 전에 필요한 모든 예방 조치를 취해야 합니다. 원자로 또는 챔버 내부에서 양압으로 작업하는 것은 위험하므로 작업자는 안전 절차를 엄격하게 준수해야 합니다. 특히 진공 상태에서 공기 반응성 물질로 작업할 때는 더욱 주의를 기울여야 합니다. 누출이 발생하면 장치 내부로 공기가 유입되어 격렬한 반응이 일어날 수 있습니다.