◼Introduction
분할 챔버 CVD 진공 스테이션 튜브 furnace는 화학 기상 증착(CVD) 응용 분야를 위해 설계된 다목적 고성능 실험실 장비입니다. 이 장비는 반응 샘플에 쉽게 접근할 수 있고 신속하게 냉각할 수 있는
분할 챔버를 특징으로 합니다. Furnace 튜브는 고온 석영으로 만들어졌으며 직경이 60mm입니다. 이 시스템에는 CH4, H2, O2, N2의 공급 가스를 사용하는 4채널 MFC 질량 유량계가 포함되어 있어
가스 유량을 정밀하게 제어할 수 있습니다. 진공 스테이션은 4L/S 회전식 베인 진공 펌프를 갖추고 있어 최대 진공 압력 10Pa를 달성할 수 있습니다. 진공 스테이션이 탑재된 분할 챔버 CVD 튜브
Furnace는 첨단 기능과 성능을 갖추고 있어 재료 과학, 반도체 공정, 기타 분야의 다양한 연구 개발 분야에 이상적인 선택입니다.
◼Applications
분할 챔버 CVD 진공 스테이션 튜브 furnace CVD 기계는 재료 과학, 반도체 제조, 연구 및 개발 분야의 다양한 응용 분야를 위해 설계된 다목적 첨단 장비입니다. 이 기계는 온도, 가스 흐름 및 진공 수준을 정밀하게 제어해야 하는 공정에 특히 유용하므로 고품질 재료 합성 및 가공에 필수적인 도구입니다.
- 나노 물질 합성: 이 furnace는 첨단 전자 및 광전자 장치의 개발에 중요한 나노 와이어, 나노 필름, 기타 나노 구조 물질의 성장에 이상적입니다.
- 진공 코팅: 광학 및 전자 제품과 같은 응용 분야에서 재료의 특성을 향상시키는 데 필수적인 금속 필름, 세라믹 필름, 복합 필름 등 다양한 기판에 박막을 증착하는 데 광범위하게 사용됩니다.
- 배터리 재료 가공: 이 furnace는 고성능 배터리의 생산에 있어 매우 중요한 단계인 배터리 재료의 건조와 소결에 적합합니다.
- 재료 건조 및 소결: 세라믹, 내화 재료, 특수 재료의 고온 소결에 사용되어 이러한 재료의 응집과 치밀화를 보장합니다.
- 분위기 및 진공 열처리: 수직 튜브로 구성으로 소형 철강 부품의 담금질, 어닐링, 템퍼링은 물론 수직 CVD 코팅도 가능하게 해 주어, 금속 공정에 있어 매우 유용한 자산입니다.
- 연구 및 개발: 고온 실험, 분위기 소결, 환원 분위기, CVD/CVI 실험을 수행하기 위해 대학, 연구소, 산업 및 광업 기업에서 널리 사용되고 있으며, 재료 과학 및 기술의 발전에 기여하고 있습니다.
◼Details and Examples
1200C CVD machine with turbo high vacuum pump
1600C CVD furnace with turbo vacuum pump station
Split CVD furnace with large quartz tube
High temperature CVD furnace with integrated controller
◼Features
스마트 진공 CVD 튜브로는 첨단 화학 기상 증착(CVD) 공정을 위해 설계된 정교한 장비입니다. 이 furnace는 필름 증착의 효율성과 품질을 향상시키기 위해 첨단 기술을 통합하여 연구 및 산업 분야에 이상적입니다. 주요 특징과 장점은 다음과 같습니다.
- 높은 막 증착 속도: 이 furnace는 무선 주파수 글로우 기술을 활용하여 막 증착 속도를 크게 향상시켜 최대 10Å/S에 도달합니다. 이처럼 빠른 증착은 높은 처리량 생산과 연구에 필수적이며, 시간을 절약하고 생산성을 향상시킵니다.
- 넓은 면적의 균일성: 첨단 다점 RF 공급 기술과 특수 가스 경로 분배 기능을 갖춘 이 노는 최대 8%의 필름 균일성을 보장합니다. 이 균일성은 넓은 기판에 걸쳐 일관되고 고품질의 코팅을 생성하고 생산된 재료의 신뢰성을 향상시키는 데 필수적입니다.
- 일관성 있는 증착: 이 설계는 반도체 산업의 첨단 개념을 도입하여 기판 간 편차가 2% 미만입니다. 이러한 높은 수준의 일관성은 전자 부품 생산과 같이 정확하고 반복 가능한 결과를 요구하는 응용 분야에 필수적입니다.
- 안정적인 공정 제어: 장비의 높은 안정성은 CVD 공정의 연속성과 일관성을 보장합니다. 이러한 신뢰성은 공정 무결성을 유지하고 작동 중 결함 또는 고장의 위험을 줄이는 데 매우 중요합니다.
- 지능형 제어 시스템: Bonage가 특허를 취득한 이 통합 제어 시스템에는 폐쇄 루프 부정적 피드백 메커니즘을 사용하는 고성능 온도 제어 시스템이 포함되어 있습니다. 이 시스템은 고품질의 수입 전기 부품과 결합되어 장비의 전반적인 성능과 신뢰성을 향상시켜 사실상 유지보수가 필요 없도록 만듭니다.
- 다목적 응용: 금속, 세라믹, 복합 필름 등 다양한 유형의 필름 증착에 적합한 이 노는 지속적인 성장 공정을 지원하고 플라즈마 세척 및 에칭과 같은 추가 기능으로 쉽게 확장할 수 있습니다. 이러한 다목적성은 다양한 연구 및 생산 요구에 유용한 자산입니다.
◼Principle
스마트 진공 CVD 튜브로는 화학 기상 증착(CVD) 공정에 사용되는 고온 진공로입니다. CVD는 기체 또는 증기의 화학 반응에 의해 기판에 물질의 박막이 증착되는 공정입니다. 분할 챔버 CVD 진공
스테이션 튜브 furnace CVD 기계는 분할로 챔버를 사용하여 CVD 공정 중에 기판에 쉽게 접근할 수 있도록 합니다. 진공 스테이션은 용광로 챔버에 진공을 생성하는 데 사용되며, 불순물을 제거하고
증착된 필름의 품질을 향상시키는 데 도움이 됩니다.
◼Advantages
- 직관적인 샘플 관찰과 빠른 냉각: 분할형 furnace 챔버를 통해 반응 샘플을 직접 관찰하고 빠르게 냉각할 수 있습니다.
- 높은 온도 기능: 최대 1200℃의 작동 온도로 다양한 용도로 사용할 수 있습니다.
- 정확한 가스 제어: CH4, H2, O2, N2 공급원이 있는 4채널 MFC 질량 유량계를 통해 정확하고 안정적인 가스 공급이 가능합니다.
- 진공 호환성: 4L/S 회전 날개 진공 펌프가 장착된 진공 스테이션은 최대 10Pa의 진공 압력을 달성하여 다양한 진공 공정을 가능하게 합니다.
- 고속 가열 및 냉각: Furnace 챔버 슬라이딩 시스템은 효율적인 샘플 처리를 위해 신속한 가열 및 냉각을 가능하게 합니다.
- 고급 온도 제어: 탁월한 정확도, 원격 제어 및 중앙 집중식 제어 기능을 갖춘 PID 프로그래밍 가능 온도 제어.
- 사용자 친화적 인터페이스: 7인치 TFT 터치스크린을 갖춘 CTF Pro 컨트롤러는 직관적인 프로그램 설정과 데이터 분석을 제공합니다.
- 다용도 진공 설정: 포트를 조정할 수 있는 스테인리스 스틸 진공 플랜지는 맞춤형 진공 환경을 위해 다양한 진공 펌프 스테이션을 수용합니다.
- 에너지 효율: 수냉 시스템과 가스 애프터플로우 설계로 에너지 소비를 최소화합니다.
- 폭넓은 적용 가능성: 진공 및 대기 보호 하의 CVD, 확산 및 기타 열처리 공정에 적합합니다.
◼Safety Advantage
- Kintek 튜브 furnace는 과전류 보호 기능과 과열 경보 기능을 갖추고 있어, Furnace가 자동으로 전원을 끕니다.
- Firnace는 열전대 감지 기능을 내장하고 있어, 열전대가 손상되거나 고장이 감지되면 가열을 중단하고 경보를 울립니다.
- KT-CTF12 Pro는 정전 복구 기능을 지원합니다. 정전 후 전원이 다시 들어오면 furnace가 가열 프로그램을 재개합니다.
◼Technical specifications
| Furnace 모델 | KT-CTF12-60 |
|---|
| 최대 온도 | 1200℃ |
| 지속 작동 온도 | 1100℃ |
| Furnace 튜브 소재 | 고순도 석영 |
| Furnace 튜브 직경 | 60mm |
Heating zone length
| 1x450mm |
| 챔버 소재 | 일본 알루미나 섬유 |
| 발열체 | Cr2Al2Mo2 와이어 코일 |
| 가열 속도 | 0-20℃/min |
| 열전대 | Build in K type |
| 온도 컨트롤러 | 디지털 PID 컨트롤러/터치스크린 PID 컨트롤러 |
| 온도 제어 정확성 | ±1℃ |
| Sliding distance | 600mm |
Flow meter
| MFC 질량 유량계 |
Gas channels
| 4 channels |
| 유속 (Flow rate) | MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
MFC3: 0- 100SCCM H2
MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearity (선형성) | ±0.5% F.S. |
| Repeatability (반복성) | ±0.2% F.S. |
| 파이프 라인 및 밸브 | 스테인리스 스틸 |
| 최대 작동 압력 | 0.45MPa |
| 유량계 컨트롤러 | 디지털 노브 컨트롤러/터치스크린 컨트롤러 |
| 진공 펌프 | 회전 날개 진공 펌프 |
| 펌프 유량 | 4L/S |
| 진공 흡입 포트 | KF25 |
| 진공 게이지 | Pirani/Resistance silicon vacuum gauge
|
| 정격 진공 압력 | 10Pa |
| 진공 펌프 | Rotary vane pump+Molecular pump
|
| 펌프 유량 | 4L/S+110L/S |
| 진공 흡입 포트 | KF25 |
| 진공 게이지 | 복합 진공 게이지 |
| 정격 진공 압력 | 6x10-5Pa |
◼Standard Package
No.
| 구성품 | 수량 |
| 1 | Furnace
| 1 |
| 2 | 석영관
| 1 |
| 3 | 진공관
| 2 |
| 4 | 튜브 열 블록
| 2 |
| 5 | 튜브 열 블록 후크
| 1 |
| 6 | 내열 장갑
| 1 |
| 7 | Precise gas control
| 1 |
| 8 | 진공 청소기
| 1 |
| 9 | 사용 설명서
| 1 |
◼Optional Setup
- 튜브 가스 검출 및 모니터링(예: H2, O2 등)
- 독립적인 furnace 온도 모니터링 및 기록
- PC 원격 제어 및 데이터 내보내기를 위한 RS 485 통신 포트
- 질량 유량계 및 부유식 유량계와 같은 가스 공급 유량 제어 장치 삽입
- 다양한 사용자 친화적 기능을 갖춘 터치스크린 온도 조절기
- 베인 진공 펌프, 분자 펌프, 확산 펌프와 같은 고진공 펌프 스테이션 설정
